美国为什么没有光刻机？

发布时间：2021-11-12 14:50 所属栏目：125 来源：互联网

导读：现在，几乎无人不识光刻机，今天最先进的EUV光刻机其本与一架新的波音喷气式客机一样高。在光刻机的发展历程中，有前赴后继的各国厂商，美国发明，日本发扬，荷兰成为最终赢家。今天我们就要讨论下，美国作为光刻技术的发明者，是如何一步步丢失掉半导体制造

现在，几乎无人不识光刻机，今天最先进的EUV光刻机其本与一架新的波音喷气式客机一样高。在光刻机的发展历程中，有前赴后继的各国厂商，美国发明，日本发扬，荷兰成为最终赢家。

今天我们就要讨论下，美国作为光刻技术的发明者，是如何一步步丢失掉半导体制造这一关键环节的。美国光刻技术的研究，从贝尔实验室的研究开始，到Fairchild的改进，再到GCA公司成为第一家制造步进设备的公司，再到Cobilt和P-E公司的不断发展演进，直到美国最后一家光刻技术公司SVG被ASML收购，一个个早期的公司相继被收购、剥离、解散，美国逐渐失去了拥有光刻机的机会。

始于贝尔实验室

早在1950年代中期，贝尔实验室就开始尝试将图像打印到硅片上。1955年，贝尔实验室的Jules Andrus和Walter L. Bond开始采用现有的光刻（也称为光刻）技术在印刷电路板上制作图案，使用 Frosch 和 Derick 的二氧化硅层在硅片上产生更精细、更复杂的设计。在该层上涂上光敏涂层或“抗蚀剂”，并通过光学掩膜将所需的图案暴露在该层上，然后在未暴露的抗蚀剂被冲洗掉的地方，通过化学蚀刻确定精确的窗口区域。杂质通过这些开口扩散到下面的硅中，形成半导体器件所需的n型硅和p型硅区域。

（编辑：ASP站长网）